2、其他情况:
a、设备正常运行电导率突然升高,排水量增大。
这种情况是由于反渗透膜组件连接密封圈泄露造成的电导率急剧升高,建议更换密封圈。具体方法是检测每个膜组件的水质情况,找出泄露的部分更换。
b、设备在开机的时候二级电导升高很难降下来或者是降的时间太长。
这种情况一般在双级反渗透中常见,在一级和二级中间一般有加氢氧化钠来调节水中二氧化碳的脱除量的措施,福建实验室小型纯化设备电话,氢氧化钠的添加量与电导率有关系,建议调整添加量。
c、设备在运行一段时间后产水量没变化,福建实验室小型纯化设备电话,电导率升高,排水量增大。
说明膜被氧化性介质降解,福建实验室小型纯化设备电话,电导率升高,需要更换膜组件。
d、设备预处理的砂碳净化过滤效果减低或失效
没有定期及时反冲洗(进水电导率会相对升高)。
针对一些精细化工用纯水设备,去离子水设备
原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透→中间水箱→中间水泵→离子交换设备→纯化水箱→输送泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点(传统工艺)
工艺三:针对微电子、半导体工艺用**纯水设备
原水→原水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器→精密过滤器→高压泵→一级反渗透→中间水箱→高压泵2→二级反渗透→中间水泵→EDI设备→纯化水箱→输送泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
原水→原水增压泵→袋式过滤器→超滤系统→超滤水箱→高压泵→一级反渗透→中间水箱→高压泵2→二级反渗透→中间水泵→紫外线杀菌器→EDI设备→脱气膜系统→**纯水箱→输送泵→TOC去除器→核级抛光混床→末端超滤系统→用水点
反渗透膜是反渗透系统的关键设备,系统长时间连续运行时,水中钙镁等离子会不断析出并在反渗透膜表面附着,形成结垢堵塞膜孔,这样会影响反渗透系统的出水效率,损坏反渗透膜。由于反渗透膜比较昂贵,所以在系统运行中,要增加一段加药系统,在水中投加反渗透阻垢剂,延缓钙镁离子的析出和膜面结垢。
特点:
①很大的浓度范围内有效的控制无机物结垢
②不与铁铝氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物
③能有效地硅的聚合与沉积,浓水侧SiO2浓度可达290ppm
④可用于反渗透CA及TFC膜、纳滤膜和超滤膜
⑤较好的溶解性及稳定性
⑥给水pH值在5-10范围内均有效